Restore Repair Mask – Haarpflege-Maske
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Beschreibung
Diese intensiv pflegende Maske hilft, Schäden bei trockenem, geschädigtem Haar zu reparieren, damit es weich, glänzend und glatt bleibt.
- Bis zu 70 % weniger Haarbruch nach nur einer Anwendung(1)
- Hilft, Schäden zu reparieren und das Haar vor zukünftigen Angriffen zu schützen
- Versorgt die Haarfaser mit Feuchtigkeit
- Hilft, die geschädigte Schuppenschicht zu reparieren, ohne das Haar zu beschweren
- Hält das Haar länger sauber, um die Zeit zwischen den Haarwäschen zu verlängern
(1)Nach einmaliger Anwendung der Restore Repair Mask vs. unbehandelt
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Anwendung
Nach dem Shampoonieren eine großzügige Menge vom Ansatz bis zu den Spitzen auftragen und fünf Minuten einwirken lassen. Ausspülen.
Bei Bedarf 1-2 Mal pro Woche anstelle von Conditioner anwenden. -
Inhaltsstoffe
WATER/AQUA/EAU, CETEARYL ALCOHOL, ASTROCARYUM TUCUMA SEED BUTTER, BEHENTRIMONIUM CHLORIDE, OCTAFLUOROPENTYL METHACRYLATE, PPG-3 BENZYL ETHER MYRISTATE, C21-28 ALKANE, JOJOBA ESTERS, MEADOWFOAM ESTOLIDE, POLYGLYCERIN-3, SODIUM LACTATE, SERINE, ARGININE, LINOLEAMIDOPROPYL DIMETHYLAMINE DIMER DILINOLEATE, PCA, GLYCINE, GUAR HYDROXYPROPYLTRIMONIUM CHLORIDE, EUPHORBIA CERIFERA (CANDELILLA) WAX, ALANINE, VALINE, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED WAX, SODIUM PCA, PROLINE, THREONINE, ISOLEUCINE, QUATERNIUM-87, HISTIDINE, PHENYLALANINE, CETYL ALCOHOL, PROPYLENE GLYCOL, CETYL HYDROXYETHYLCELLULOSE, HYDROXYETHYLCELLULOSE, CETETH-20, STEARETH-20, PEG-75 STEARATE, GLYCERYL STEARATE, FRAGRANCE/PARFUM, GLYCOLIC ACID, ASPARTIC ACID, CETYLPYRIDINIUM CHLORIDE, HYDROXYACETOPHENONE, LIMONENE, HEXYL CINNAMAL, LINALOOL, CITRONELLOL.
2005 schloss sich ein überraschendes Team aus Wissenschaftlern des MIT und Friseuren zusammen, um eine revolutionäre Vision für wissenschaftlich basierte Haarpflege zu entwickeln. Heute steht Lp. für Wissenschaft in Aktion: Wir stehen an der Spitze der wissenschaftlichen Innovation und liefern bisher ungekannte Ergebnisse für alle Haartypen.
